金融界2025年8月2日消息南京开户配资，国家知识产权局信息显示，美光科技公司申请一项名为“包含具有气隙的隔离结构的微电子装置及相关方法”的专利，公开号CN120417392A，申请日期为2025年01月。
专利摘要显示，本申请案涉及包含具有气隙的隔离结构的微电子装置及相关方法。一种微电子装置包括第一堆叠结构及第二堆叠结构，其包括布置在第一及第二层级中的第一及第二导电结构与第一及第二绝缘结构的竖直交替序列。存储器单元串竖直延伸穿过所述第一堆叠结构，所述存储器单元串个别包括竖直延伸穿过所述第一堆叠结构的沟道材料。沟道结构延伸穿过所述第二堆叠结构且竖直上覆于且电耦合到所述存储器单元串。沟道开口含有所述沟道结构且具有第一尺寸，且所述沟道结构环绕绝缘材料。第三导电结构竖直上覆于所述沟道结构且所述沟道结构的金属硅化物区电连接所述沟道结构及所述第三导电结构。导电结构开口含有所述第三导电结构且具有大于所述第一尺寸的第二尺寸。
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